Electron-beam, X-ray and ion-beam submicrometer lithographies for manufacturing III - 1-2 March 1993, San Jose, California
- Författare
- (David O. Patterson, chair/editor.)
- Genre
- Konferenspublikation
- Språk
- Engelska
| Förlag | År | Ort | Om boken | ISBN |
|---|---|---|---|---|
| Cop. 1993 | USA | 470 sidor. | ||
| SPIE | 1993 | District of Columbia, Bellingham, Wash | 1 online resource (vii, 470 pages) illustrations |